uv光催化氧化设置装备摆设接纳天下上较_技能理念，经过_及九游会工程技能职员临时重复的实验，开辟研制出的，具有自主知识产权的高科技污染产品可剖析产业废气中有毒无害物质，并能到达脱臭、污染结果，经剖析后的产业废气，可到达化排放，不发生二次净化，同时到达的作用。
uv光催化氧化设置装备摆设接纳高强度纳米紫外线毁坏、剖析大分子链为小分子链，再使用臭氧和羟基自在基氧化、催化剂举行催化氧化，使无机物变为水和二氧化碳，以到达去除无机物的目标。
半导体光催化剂大多是n型半导体质料（以后以TiO2利用普遍）都具有区别于金属或绝缘物质的分外的能带布局,即在一个价带和导带之间存在一个禁带。
由于半导体的光吸取阈值与带隙具有式K=1240/Eg（eV）的干系,因而常用的宽带隙半导体的吸取波长阈值多数在紫外地区。当光子能量高于半导体吸取阈值的光照射半导体时,半导体的价带电子产生带间跃迁,即从价带跃迁到导带,从而发生光生电子（e-）和空穴（h+）。此时吸附在纳米颗粒外表的消融氧俘获电子构成超氧负离子,而空穴将吸附在催化剂外表的氢氧根离子和水氧化成氢氧自在基。而超氧负离子和氢氧自在基具有很强的氧化性,能将绝大少数的无机物氧化至产品CO2和H2O,乃至对一些无机物也能剖析。
uv光催化氧化设置装备摆设功能上风

1、除恶臭：能去除挥发性无机物（VOC）、无机物、硫化氢、氨气、硫醇类等次要净化物，以及种种恶臭味，脱臭结果大大_1993年公布的恶臭净化物排放尺度（GB14554-93）和1996年公布的《大气净化物综合排放尺度》（GB16297-1996）。
2、无需添加_物质：只必要设置响应的排风管道和排风动力，使恶臭/产业废气经过本设置装备摆设举行脱臭剖析污染，无需添加_物质到场化学反响。
3、顺应性强：GY-系列恶臭气体（产业废气）UV光解废气污染设置装备摆设可顺应高浓度，大宇量，差别产业废气物质的脱臭、污染处置，可天天24小时一连事情，运转波动牢靠。
4、运转本钱低：GY-系列恶臭气体（产业废气）UV光解废气污染设置装备摆设无_机器举措，无乐音，无需专人办理和一样平常维护，只需作活期反省，本设置装备摆设能耗低，设置装备摆设风阻级低＜50pa,可浪费少量排风动力能耗。
5、设置装备摆设占空中积小，自重轻：合适于部署紧凑、园地狭窄等条件，设置装备摆设占空中积＜1平方米/处置10000m3/h风量。
6、入口质料制造：防火功能高，设置装备摆设功能波动，接纳不锈钢材质，设置装备摆设利用寿命在十五年以上。
7、防爆认证产品：设置装备摆设具有、防爆特征，已经过防爆电器产品格量监视查验中心的Ex防爆及格认证（证书编号：CNEx13.0792 X），能普遍使用于采油（气）田、煤油化工、制药等防爆要求高的行业。